不同于普通的保護膜或膠帶，光學膜必須厚薄均勻，表面要求無塵、少晶點，這對涂布技術提出了更高的要求，要求制得的膜厚薄更均勻。因此，精密涂布工藝也逐漸發展起來并不斷地完善。光學膜涂層傳統上采用真空蒸鍍、化學沉積、等離子聚合等方法制備，這些方法難以實現卷式薄膜基材的大規模生產；在現代涂布工藝中，常用的涂布方式有浸涂、輥涂、坡流式擠壓涂布、落簾涂布等。這些涂布方式各適用于不同性能的物料和涂層厚度，有各自的優缺點。如浸涂的涂布量不易控制，受物料的特性和溫度影響較大；輥涂涂布的涂層的厚度便于控制，涂布量比較容易控制，均勻度較好，但受物料特性影響較大，適應物料黏度范圍較窄；坡流式擠壓涂布雖然涂布量容易控制，但適應物料黏度范圍較窄，涂布量太小時不易涂布，并且不能涂到邊緣，造成基材浪費；落簾涂布是一種預計量涂布方式，其操作簡易，縱向、橫向涂層厚度都非常均勻，涂層沒有刮痕、條痕、橘皮紋，但落簾容易受車速等因素影響，因此，穩定落簾是一個大問題。

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